电子行业超纯水设备

  电子行业超纯水设备是用于制备电阻率≥18.2 MΩ·cm（25℃）、杂质含量极低（如TOC≤5 ppb、颗粒≤1个/ml）的高纯度水的关键系统，广泛应用于半导体、集成电路、液晶显示、光伏电池等电子元器件的生产过程中。

1. 预处理阶段

多介质过滤器：去除悬浮物、胶体、颗粒。

活性炭过滤器：吸附有机物、余氯。

软化器：通过离子交换树脂去除钙镁离子，防止结垢。

精密过滤器：5μm滤芯进一步截留微小颗粒。

2. 初级纯化（RO反渗透）

反渗透（RO）：脱除98%以上的离子、有机物和微生物，产水电导率≤10 μS/cm。

二级RO系统（可选）：提高脱盐率至99.5%以上。

3. 深度纯化

EDI（电去离子）：结合离子交换膜和电场作用，无需酸碱再生，产水电阻率可达5-15 MΩ·cm。

混床离子交换（可选）：进一步将电阻率提升至18.2 MΩ·cm。

4. 终端精处理

UV紫外杀菌：185nm/254nm紫外线降解TOC并灭菌。

抛光混床：去除痕量离子，确保最终水质达标。

全自动化控制：PLC+触摸屏，实现自动运行、冲洗、报警。

零排放设计：浓水回用，符合环保要求。

模块化结构：便于扩展和维护。

低能耗设计：如能量回收装置（ERD）降低RO能耗。

电阻率：≥18.2 MΩ·cm（25℃）

TOC（总有机碳）：≤1-5 ppb

颗粒物：≤1个/ml（粒径≥0.1μm）

微生物：≤0.1 CFU/ml

离子含量：Na⁺、Cl⁻等≤0.01 ppb

溶解氧：≤1 ppb